我国稀土抛光粉存在哪些技术瓶颈？

稀土抛光粉的主要组分是氧化铈，又称为氧化铈抛光粉、铈基稀土抛光粉，因其优异的抛光效果，也被誉为“抛光粉之王”。

随着我国稀土抛光粉产业的快速发展，铈稀土磨粉及其磨料制品已具备了粒度尺寸一致、硬度适中、研磨能量大、抛光耗时短、抛光精度高、使用寿命长、工作环境清洁等优点，并且已经完全取代了过去使用的氧化铁磨粉，应用于玻璃表面、平板玻璃、阴极射线管、手机电脑屏幕、玻璃外壳、目镜、光学玻璃、镜片、宝石、金属表面抛光、水晶、装饰板材以及机械设备的冷加工。

我国中低档稀土抛光粉的规模和技术比较成熟，但在高端应用领域仍与国外存在一定差距，主要原因是国内产品质量的稳定性、精密控制等方面尚存在差距，尤其是以半导体集成电路浅槽隔离（STI）制程用氧化铈抛光材料尚依赖于进口。 稀土抛光粉的颗粒控制技术、晶型和形貌控制技术等问题仍然存在；高性能稀土抛光材料中的大颗粒及异物控制难以降低；大规模生产的产品一致性和稳定性差，其生产、应用和产业化的关键共性技术仍未突破；新一代稀土抛光材料的研究开发进展缓慢。目前，我国稀土抛光粉的技术瓶颈主要表现在：

1、生产工艺落后；

2、粒径控制技术不成熟

3、大颗粒及杂质难以消除

4、晶型控制不完全

5、高端稀土抛光材料产业化生产的稳定性差

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